半导体工业生产氮氧化物的有机废气处理

半导体是指在常温状态导电性能处于电导体与导电体中间的原材料，半导体在生产的过程当中会产生一种氮氧化物的有机废气，今日了解一下有关半导体工业生产氮氧化物的有机废气处理。

氮氧化物分成一氧化二氮(N2O)、一氧化氮(NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮(N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五空气氧化二氮(N2O5)等，氮化合物遇光、湿或热变为二氧化氮及一氧化氮，一氧化氮又变成二氧化氮，不一样价位氮化合物毒副作用不一样。

比较常见的半导体原料有硅、锗、氮化镓等，制造厂在生产阶段的主要污染物有一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、三氧化二氮、四氧化二氮和五空气氧化二氮、HF等。

半导体氮氧化物有机废气所采用的点燃控制系统、脱硫装置技术和炉膛内喷涌吸附剂，工业有机废气处理的NOx一般采用全过程后处理工艺，去除技术性又分干法和干法两种，干法包含催化氢化铝锂、催化分解法、吸附法等，干法包含催化氢化铝锂、催化分解法、吸附法。

湿式于干法对比，所采用的污水处理工艺简易、吸附剂品种多、实际操作花费便宜、适应能力强等优点。