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光伏工业废气主要含有有机废气、酸碱废气以及特殊废气,废气的产生主要来源于电池片制绒、硅切片清洗、切片阶段、去PSG阶段、硅切片废线切割阶段、烧结阶段、电池片丝网印刷、化学气相沉积工序使用的硅烷、氢气和氨气残余时产生的工业废气。
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随着电子产品的应用越来越广泛,电子设备的需求量就会在不断的增长中,在半导体芯片生产的过程中不但会产生大量的工业污水而且还会产生具有污染性的工业废气,面对工厂产生的这部分工业废气应如何处理,本文了解关于半导体芯片生产工业的废气处理设备。
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半导体芯片加工厂的工业废气主要包含了硫酸雾、氟化物、氯化物、氯气、氨气、硫酸雾等的酸/碱废气以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷总烃等的有机废气,具有挥发性的VOCs以及酸碱废气主要来源于对芯片的清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影过程中产生的,这部分的废气浓度小且排放量大。
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随着工业的发展越来越迅速,空气污染的情况也越来越严重,目前市场上常用的废气处理装置有离子除臭以及光氧除臭,本文整理一份关于离子除臭和光氧除臭之间的区别,两者之间哪一个,以上是对于离子除臭和光氧催化设备之间的区别整理,两者之间没有所谓哪一个的好,选用哪一设备主要还需根据用户需要处理的是哪一工业领域的废气。