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半导体芯片加工厂的工业废气主要包含了硫酸雾、氟化物、氯化物、氯气、氨气、硫酸雾等的酸/碱废气以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷总烃等的有机废气,具有挥发性的VOCs以及酸碱废气主要来源于对芯片的清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影过程中产生的,这部分的废气浓度小且排放量大。
工业废气的产生不仅对我们赖以生存的生态环境造成严重影响,间接性的还会给人们的生活造成一定的危害,随着技术的发展越来越迅速,废气处理设备在市场上的类型已经越来越多,其中生物除臭设备常用于工业加工车间的废气处理,本文了解一下关于生物除臭设备是怎么进行臭气处理的?。
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热力燃烧法可以处理有机废气浓度较低的,风量在1000—5000mg/m³之间的废气;离子净化法虽然适用的范围广但是对于含水、含尘、有机废气浓度较高的密闭空间容易发生爆炸的情况,因此不宜处理易燃易爆的气体;活性炭吸附法可以用于大风量的、无颗粒物、无粘性物、低浓度的有机废气处理。
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随着电子产品的应用越来越广泛,电子设备的需求量就会在不断的增长中,在半导体芯片生产的过程中不但会产生大量的工业污水而且还会产生具有污染性的工业废气,面对工厂产生的这部分工业废气应如何处理,本文了解关于半导体芯片生产工业的废气处理设备。
对工业车间产生的废气进行集中收集,废气净化设备可以根据废气成分采用不同的处理工艺来处理、回收、去除或者是减少排放尾气的有害成分以达到大气层的空气不被污染的情况,但是很多的企业对于净化处理设备具体可以处理哪些工艺的废气了解还不是很清楚,本文介绍关于工业废气净化设备可以处理哪些成分的工业废气?。
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酸雾废气处理设备原理:以可水溶性气体为例,主要采用浓度为2~6%的氢氧化纳溶液的中和吸收液,工业废气雾状喷淋液由上而下,气体自上而下,当气体和溶液在填料层表面接触充分吸收后,酸雾与碱性液充分交织后就可以达到很好的吸收净化效果。